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当前位置:首页产品中心edwards爱德华 优势品牌IXH1210HEdwards/爱德华 高性能干式真空泵 iXH 系列

Edwards/爱德华 高性能干式真空泵 iXH 系列
产品简介:

Edwards/爱德华 高性能干式真空泵 iXH 系列
诚信为本、专业高效、客户共赢、赋能产业
成为连接*半导体资源与国内终端需求的核心桥梁

产品型号:IXH1210H

更新时间:2026-05-09

厂商性质:经销商

访问量:33

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产品介绍

Edwards/爱德华 高性能干式真空泵 iXH 系列
Edwards/爱德华 高性能干式真空泵 iXH 系列

Edwards(爱德华)iXH 系列是专为半导体严苛制程设计的高性能干式真空泵,为 iH 系列升级款,主打强耐腐蚀、高粉尘耐受性、大流量氢气抽取、低能耗长寿命,是 300mm 晶圆、优良封装、化合物半导体(GaN)、平板显示(FPD)等制程的主流干泵。

一、核心定位

  • 品牌背景:英国 Edwards(爱德华),真空技术百年积淀,半导体干泵**。

  • 应用场景:半导体(刻蚀 / 沉积 / ALD / 外延)、FPD、LED、光伏、化合物半导体(GaN)、高 k / 低 k 介电层制程,强腐蚀、含粉尘、大流量氢气工况优选。

  • 核心价值无油洁净、极限真空高、耐工况、智能低维护、低 TCO,解决传统干泵在严苛制程下寿命短、易故障、能耗高的痛点。

二、主流型号与关键参数

型号峰值抽速(m³/h)极限真空(mbar)功率(kW)噪声 dB (A)重量(kg)
iXH100100<3×10⁻²4.5≤70约 90
iXH200H200<3×10⁻²7.5≤70约 120
iXH500H500<5×10⁻³6.6≤72约 250
iXH610610<5×10⁻³8.4≤72约 280
iXH12101210<5×10⁻³18.5≤74约 450
  • 组合机型:可配罗茨增压泵(如 iXH500H/3000),抽速达 3000 m³/h,极限真空<5×10⁻³ mbar,适配大腔体、快速抽气场景。

三、工作原理与核心技术

  • 工作原理多级干式螺杆结构,双螺杆同步反向旋转,形成密闭腔室,逐级压缩气体并排出,全程无油接触,实现洁净真空。

  • 核心技术亮点

    • Gas Buster™技术:很强粉尘处理能力,可处理高浓度粉尘与副产物,防止泵腔堵塞,延长寿命。

    • XCEDE 防腐技术4 倍于前代的耐腐蚀性,适配 HF、HCl、Cl₂等强腐蚀气体,适配刻蚀 / 沉积等严苛制程。

    • 宽温域热管理温度可调范围大,优化泵体温度,减少冷凝与副产物沉积,提升稳定性。

    • 创新密封技术非接触式长效密封 + 五合一吹扫系统,隔离腐蚀气体与齿轮箱,降低泄漏风险,延长维护周期。

    • 智能控制(Green Mode)待机节能模式,能耗降低 10%,支持远程监控、自动启停、故障诊断,兼容 SEMI E54 标准。

四、核心优势

  1. 耐严苛工况:XCEDE 防腐 + Gas Buster 粉尘处理,强腐蚀、高粉尘、大流量氢气环境稳定运行,寿命较普通干泵延长 50%。

  2. 高效低能耗:较前代能耗降低 10%,Green Mode 待机节能,适配 CVD 等大流量制程,降低运营成本。

  3. 高真空高抽速:极限真空达 **<5×10⁻³ mbar**,抽速覆盖 100–1210 m³/h,可组合增压泵,满足快速抽气与高真空需求。

  4. 长周期低维护密封寿命长、吹扫系统防沉积,维护周期≥8000 小时,减少停机时间,降低 TCO。

  5. 紧凑易集成:模块化设计,可堆叠安装,占地面积减少 30%;单控制器管理多泵,支持 RS-485/Modbus,适配工厂 MES 系统。

五、典型应用

  • 半导体刻蚀:硅刻蚀、氧化物刻蚀、金属刻蚀,处理含氟 / 氯腐蚀气体与粉尘。

  • 薄膜沉积:PECVD、LPCVD、ALD、SACVD、高 k / 低 k 介电层沉积,大流量氢气与前驱体抽取。

  • 化合物半导体:GaN 外延、MOCVD 制程,耐高温、抗氨腐蚀。

  • 平板显示(FPD):OLED、LCD 制程,大腔体快速抽气与稳定真空控制。

  • 光伏 / LED:扩散、PECVD、刻蚀制程,处理粉尘与腐蚀性气体。













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