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edwards爱德华 优势品牌
IXH1220HEdwards/爱德华 高性能干式真空泵 iXH 系列




产品型号:IXH1220H
更新时间:2026-05-09
厂商性质:经销商
访问量:33
服务热线18825222238
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品牌背景:英国 Edwards(爱德华),真空技术百年积淀,半导体干泵**。
应用场景:半导体(刻蚀 / 沉积 / ALD / 外延)、FPD、LED、光伏、化合物半导体(GaN)、高 k / 低 k 介电层制程,强腐蚀、含粉尘、大流量氢气工况优选。
核心价值:无油洁净、极限真空高、耐工况、智能低维护、低 TCO,解决传统干泵在严苛制程下寿命短、易故障、能耗高的痛点。
| 型号 | 峰值抽速(m³/h) | 极限真空(mbar) | 功率(kW) | 噪声 dB (A) | 重量(kg) |
|---|---|---|---|---|---|
| iXH100 | 100 | <3×10⁻² | 4.5 | ≤70 | 约 90 |
| iXH200H | 200 | <3×10⁻² | 7.5 | ≤70 | 约 120 |
| iXH500H | 500 | <5×10⁻³ | 6.6 | ≤72 | 约 250 |
| iXH610 | 610 | <5×10⁻³ | 8.4 | ≤72 | 约 280 |
| iXH1210 | 1210 | <5×10⁻³ | 18.5 | ≤74 | 约 450 |
组合机型:可配罗茨增压泵(如 iXH500H/3000),抽速达 3000 m³/h,极限真空<5×10⁻³ mbar,适配大腔体、快速抽气场景。
工作原理:多级干式螺杆结构,双螺杆同步反向旋转,形成密闭腔室,逐级压缩气体并排出,全程无油接触,实现洁净真空。
核心技术亮点:
Gas Buster™技术:很强粉尘处理能力,可处理高浓度粉尘与副产物,防止泵腔堵塞,延长寿命。
XCEDE 防腐技术:4 倍于前代的耐腐蚀性,适配 HF、HCl、Cl₂等强腐蚀气体,适配刻蚀 / 沉积等严苛制程。
宽温域热管理:温度可调范围大,优化泵体温度,减少冷凝与副产物沉积,提升稳定性。
创新密封技术:非接触式长效密封 + 五合一吹扫系统,隔离腐蚀气体与齿轮箱,降低泄漏风险,延长维护周期。
智能控制(Green Mode):待机节能模式,能耗降低 10%,支持远程监控、自动启停、故障诊断,兼容 SEMI E54 标准。
耐严苛工况:XCEDE 防腐 + Gas Buster 粉尘处理,强腐蚀、高粉尘、大流量氢气环境稳定运行,寿命较普通干泵延长 50%。
高效低能耗:较前代能耗降低 10%,Green Mode 待机节能,适配 CVD 等大流量制程,降低运营成本。
高真空高抽速:极限真空达 **<5×10⁻³ mbar**,抽速覆盖 100–1210 m³/h,可组合增压泵,满足快速抽气与高真空需求。
长周期低维护:密封寿命长、吹扫系统防沉积,维护周期≥8000 小时,减少停机时间,降低 TCO。
紧凑易集成:模块化设计,可堆叠安装,占地面积减少 30%;单控制器管理多泵,支持 RS-485/Modbus,适配工厂 MES 系统。
半导体刻蚀:硅刻蚀、氧化物刻蚀、金属刻蚀,处理含氟 / 氯腐蚀气体与粉尘。
薄膜沉积:PECVD、LPCVD、ALD、SACVD、高 k / 低 k 介电层沉积,大流量氢气与前驱体抽取。
化合物半导体:GaN 外延、MOCVD 制程,耐高温、抗氨腐蚀。
平板显示(FPD):OLED、LCD 制程,大腔体快速抽气与稳定真空控制。
光伏 / LED:扩散、PECVD、刻蚀制程,处理粉尘与腐蚀性气体。
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