一、产品原理与光谱

1. 185nm：裂解 O₂生成臭氧 O₃；

2. 254nm：打断有机物化学键、分解臭氧产活性氧；

   协同干法除油 / 残胶 / 指纹 / 有机污染物、表面改质亲水，无溶剂、无水洗（UV 臭氧清洗 = UVO 清洗）。

• 寿命标准：原厂额定6000h（远优于普通杀菌灯），全系列标配水冷结构（U/G 后缀全水冷），控温稳紫外输出。

• 区分：U = 通用标准款；G = 高光强高效款（同功率清洗效率 + 30%）。

二、型号命名规则

• U：常规经济型；G：高功率高光强强化型；全部水冷散热

三、全系列主力型号清单（功率 / 发光总长 / 安装尺寸）

1、小功率实验 / 小型清洗机（实验室、打样、小玻璃）

2、中功率量产机型（PCB、光学玻璃、FPC、晶圆）

3、大功率宽幅产线（镀膜线、LCD 基板、ITO 玻璃连续清洗）

四、应用行业（低压清洗专属场景）

1. 半导体 / 晶圆：硅片、砷化镓基板蒸镀前除有机残留，提升镀膜附着力；

2. 光电显示：LCD/TP/ITO 玻璃、光学镜片、盖板玻璃清洗 + 表面亲水改质；

3. PCB/FPC 电子：焊盘除助焊剂残渍、阻焊前板面活化；

4. 镀膜行业：光学镀膜、蒸镀、溅射前基材超净处理；

5. 塑胶 / 新材料：PET/PI 薄膜等离子预处理、提升油墨粘接附着力。