FITOK飞托克 ALD 系列 原子层沉积隔膜阀
> 产品定位：半导体 ALD 原子层沉积工艺专用**高速高纯气动隔膜阀，用于半导体工艺特气精准脉冲式给药，满足先进制程纳米薄膜沉积要求

FITOK飞托克 ALD 系列 原子层沉积隔膜阀
FITOK飞托克 ALD 系列 原子层沉积隔膜阀

✅ 核心特点

1. 流道无死区，极易吹扫，降低残余气体、颗粒污染，适配超高纯特气

2. 超快响应：全开关响应＜15ms，部分版本可低至 5ms，满足 ALD 高频脉冲换气

3. 流量一致性高：Cv 偏差 ±3%，批次稳定性好，保证每周期气体剂量稳定

4. 超长循环寿命，适配 ALD 设备高频次往复开关工况

5. 多版本可选：标准型 / 耐热型 / 热浸没型

6. 带电磁阀配置款：电磁阀可沿执行器圆周旋转，方便管路布局调位

7. 介质接触材质耐腐蚀，PFA 阀座 + 钴合金隔膜，兼容各类前驱体、蚀刻气体

8. 阀体采用 SEMI F20 标准 316L / 316L VIM-VAR 不锈钢，EP 电解抛光处理

📌 技术参数

表格

🧩 材质（介质接触件）

• 阀体：316L SS / 316L VIM-VAR（SEMI F20）

• 隔膜：钴合金 AMS5876，高强度耐腐蚀

• 阀座：高纯 PFA

🏭 行业应用 & 工艺场景

1. 半导体：原子层沉积 ALD 设备（高 k 介质、金属栅、阻挡层沉积）

2. 超高纯电子特气脉冲给药、前驱体输送

3. 半导体薄膜设备、MEMS 制造、纳米涂层设备

4. 实验室真空气相沉积系统