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EBARA荏原 干式罗茨真空泵 华南一级代理
产品简介:

EBARA荏原 干式罗茨真空泵 华南一级代理
荏原独特的高温技术使其能够在半导体、液晶和太阳能电池制造等产生反应副产物的高负荷工艺中运行。其高能效可同时实现高负荷工艺能力和节能效果。标配耐腐蚀材料,并提供排气量高达110,000升/分钟的大排量型号。凭借丰富的产品系列,可满足各种工艺条件,从而应对广泛的高负荷工艺。

产品型号:EV-M302N

更新时间:2026-07-08

厂商性质:经销商

访问量:16

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产品介绍

EBARA荏原 干式罗茨真空泵 华南一级代理
EBARA荏原 干式罗茨真空泵 华南一级代理
一、产品定位
EV-M 是日本荏原(EBARA)重载型无油干式罗茨真空泵,专为半导体、面板、光伏等高腐蚀、大量工艺副产物析出的重负荷真空制程开发,搭载荏原高温防沉积技术,兼顾耐腐蚀、大抽速、低能耗三大核心优势,全系列无油润滑,无油气污染,满足 SEMI 半导体行业规范。
二、核心结构与技术原理
多级罗茨转子干式结构,无油腔体设计;整机集成分段式定点加热系统,全程维持腔体高温,避免硅化物、氯化物、金属副产物冷凝沉积;内置智能变频控制系统,空载降功率节能运行;标准配置耐腐蚀基材,可选镍合金 / 镍涂层强化防腐工况适配。
核心技术亮点

  1. 高温防沉积技术

    泵腔全程恒温加热,反应粉尘、冷凝物不会附着泵体,大幅减少清理、拆机维护频次,适配刻蚀、CVD 等产尘量大制程。

  2. 超高氢气抽气性能

    相比螺杆干泵,H₂氢气抽速显著更高,薄膜沉积、退火、ALD 氢气工艺吞吐量更强。

  3. 全域节能控制

    智能怠速模式,待机 / 低负载自动降转速,极限真空运行功耗极低,长期运行电费大幅降低;50/60Hz 双频率下抽速、真空性能一致,*工厂通用。

  4. 标准耐腐蚀基底

    腔体标配防腐不锈钢材质;强腐蚀 HF、Cl 基气体场景可选镍涂层、哈氏合金腔体升级方案。

  5. 一体化集成设计

    整机自带水冷回路、本地触控显示屏、急停按钮、真空压力监测、故障自诊断;支持远程通讯对接 Fab 工厂自动化系统。

  6. 合规认证齐全

    CE、NRTL、SEMI S2 半导体安全标准认证,可直接用于无尘车间 Subfab 真空机房

三、全系列型号与基础参数

覆盖从小实验室小流量至晶圆厂超大产线全规格,主流型号关键指标:
型号额定抽速 (L/min)极限真空额定电机功率整机重量
EV-M20N108/130≤0.01 Pa1.5 kW170 kg
EV-M102N10,000≤0.01 Pa1.8 kW320 kg
EV-M202N20,000≤0.01 Pa1.9 kW360 kg
EV-M302N30,000≤0.01 Pa2.3 kW400 kg
EV-M502N50,000≤0.01 Pa11 kW500 kg
EV-M802N80,000≤0.01 Pa15 kW680 kg
EV-M1205SF110,000(最大机型)≤0.01 Pa22 kW950 kg
补充说明:
  • N 标准型:通用半导体常规腐蚀工艺;

  • SF 重载强化型:超高粉尘、强腐蚀、长连续运行产线专用;

  • 冷却统一水冷:单台冷却水流量 3~12 L/min,水温≤25℃。

四、产品优势总结

  1. 运维成本更低:高温防积尘设计,拆机清洗周期延长 2~3 倍,减少产线停机损失;无油设计,无需定期更换真空油、油过滤器。

  2. 占地面积紧凑:立式一体化机柜,同等抽速比传统分体罗茨机组占地缩小 30%,适配空间紧张的洁净厂房。

  3. 工况兼容性广:可处理含硅、氯、氟、金属有机源等各类腐蚀性工艺气体;支持连续 7×24 小时不间断运行。

  4. 智能化运维:本地触摸屏实时显示真空度、温度、电流、冷却水状态;内置故障代码,支持远程报警、数据上传至工厂 MES 系统。

  5. 低总拥有成本 (TCO):变频节能 + 长维护周期,对比竞品干泵 3 年综合运行成本下降 20% 以上。

五、典型应用行业与工艺

1. 半导体晶圆制造(核心应用)

刻蚀、LPCVD、PECVD、ALD、MOCVD、PVD、离子注入、晶圆清洗、SiC 碳化硅宽禁带器件制程;适配含 Cl/F 硅基反应气体重负载工艺。

2. 液晶 / 面板显示产线

TFT 薄膜沉积、像素刻蚀、真空蒸镀、腔体清洗;大量金属氧化物副产物场景优选。

3. 光伏太阳能电池

薄膜硅、钙钛矿电池沉积、刻蚀、退火、扩散工艺;氢气、硅烷工艺适配性强。

4. 科研与工业真空

光学镀膜、精密金属退火、特种气体输送、实验室高真空反应腔体、电子元器件封装真空设备





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