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DIC迪爱生 eFLOW超纯水防静电/脱气一体装置
产品简介:

DIC迪爱生 eFLOW超纯水防静电/脱气一体装置
eFLOW P = Panel mount 面板机架式,是 DIC SEPAREL 膜技术集成一体机,内置 PF-L 大流量脱气膜模组,同时实现两大核心功能

产品型号:2AP-B01

更新时间:2026-07-06

厂商性质:经销商

访问量:3

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产品介绍

DIC迪爱生 eFLOW超纯水防静电/脱气一体装置
DIC迪爱生 eFLOW超纯水防静电/脱气一体装置


一、产品定位与命名说明

1. 系列定义

eFLOW P = Panel mount 面板机架式,是 DIC SEPAREL 膜技术集成一体机,内置 PF-L 大流量脱气膜模组,同时实现两大核心功能:
1)超纯水在线深度脱气(除 O₂/CO₂,消除气泡)
2)CO₂精准溶入控电阻率,抑制静电、防晶圆线路击穿 / 粉尘吸附
属于半导体 8/12 寸晶圆、面板清洗机标准柜装设备,适配 EIA 标准机柜导轨直接嵌入式安装。

2. 型号命名规则

  • 1AP / 2AP / 4AP:单 / 双 / 四模组配置(AP = 标准洁净面板款)

  • B01/B02:管路洁净等级、接头规格后缀

  • 内置膜芯:PF-001L-ND2 / PF-001L-NA(大流量低压损纯水专用 PF-L 系列)

二、双重核心工作原理(脱气 + 防静电一体)

1)脱气功能(内置 PF-L 内灌流膜)

原水 DI 水进入内置 PF-L 模组,液体走中空纤维内部,外侧真空抽取;ppb 级脱除溶解氧、二氧化碳,杜绝清洗槽气泡水印、高压喷射针孔缺陷。

2)防静电控电阻率(CO₂膜溶入系统)

  1. 一路超纯水单独通入 PF-L 模组,外侧通入高纯 CO₂,制成CO₂饱和纯水

  2. 饱和碳酸水与主路高纯水按比例自动混合;

  3. CO₂电离微量离子,精准下调纯水电阻率(区间 0.1~15 MΩ・cm 可调);

  4. 提升水体导电能力,快速导出静电,避免静电击穿精细线路、粉尘静电二次吸附基板。

三、P 系列主流型号完整参数

型号处理流量 (L/min)内置脱气模组机柜安装液体接口适用电阻率区间
eFLOW 1AP-B021~16PF-001L-NA ×1EIA 标准面板Rc3/40.1~15MΩ·cm
eFLOW 2AP-B015~30PF-001L-ND2 ×2EIA 标准面板Rp1"0.1~15MΩ·cm
eFLOW 4AP-B0110~60PF-001L-ND2 ×4EIA 标准面板Rp1-1/4"0.1~15MΩ·cm

通用工况参数

  • 工作水温:20~30℃(优),5~40℃极限

  • 液体工作压力:0.1~0.3MPa,瞬时耐压 0.5MPa

  • CO₂供气压力:0.05~0.15MPa

  • 膜芯质保:原厂 5 年长效寿命

  • 接液材质:UPVC 壳体 + 低析出 EPDM 密封,无金属离子析出,半导体高洁净标准

四、P 系列(面板式)核心优势

1. 集成一体,省去两套设备采购

单机同时完成脱气 + 防静电调电阻率,无需单独采购脱气柱 + CO₂溶气装置,缩减机柜空间、简化管路、降低成本。

2. EIA 标准面板机架,设备集成友好

整机为标准面板模块化结构,可直接推入清洗机、湿法设备标准电气机柜,现场布线接管简单,设备厂商整机配套优选(对比落地 C 柜型体积更小)。

3. PF-L 大流量低压损膜芯

内置大流量 PF-L 系列脱气模组,同等流量下压损远低于 PF-D,适配全厂大流量纯水支路循环,不增加供水泵负荷;支持反向冲洗,维护周期长。

4. 电阻率闭环精准自控

搭载在线电阻率传感器 + 自动比例混合阀,流量波动时电阻率稳定不漂移;无需人工频繁调节,长期 24h 连续生产稳定。

5. 低析出、半导体无尘制程适配

全管路洁净接头、无重金属溶出,满足 12 寸先进晶圆、Mini/Micro LED 高洁净清洗要求。

6. 故障率低,运维简单

无复杂精密机械结构;仅需定期更换 PF-L 膜芯,真空、CO₂气路自带排污监测,故障点少。

五、适用介质(仅限纯水体系)

✅ 适用:18.2MΩ・cm 超纯水、硅片 / 掩模 / 面板清洗 DI 水、高压喷射纯水、切割工艺纯水、槽式清洗循环水
❌ 禁止:HF、浓酸碱、IPA、光刻胶、有机溶剂(腐蚀 PF-L 聚烯烃膜,强腐蚀药液选用 PF-F 氟膜模组单独脱气)

六、典型应用场景

  1. 半导体晶圆制程

    8/12 寸硅片 SC 清洗、掩模版清洗、高压纯水喷射切割,消除静电击穿栅极、粉尘吸附缺陷;

  2. LCD/OLED/ 显示面板

    玻璃基板、彩色滤光片水洗工序,防止静电造成像素断线、色斑;

  3. 光伏硅片、功率器件 SiC 清洗

    纯水循环脱气 + 防静电,避免硅片氧化水印、静电损伤外延层;

  4. 光学元件、精密零部件超纯水喷淋清洗

七、eFLOW P(面板式) vs C(落地柜式)区别

对比项P 系列 AP 面板式C 系列 AC 落地柜式
安装方式EIA 机柜嵌入式,面板机架独立落地柜体,自带脚轮
体积紧凑轻薄,适配单机设备体积大,适合纯水站集中处理
适用流量1~60L/min,单机清洗机配套10~100L/min,产线总管集中处理
配套场景清洗机、蚀刻机单机内置Fab 中央纯水站集中调控
集成难度低,设备原厂整机配套高,需独立机房摆放

八、使用与维护要点

  1. 进水必须预先过滤(5μm 精密过滤器),防止颗粒堵塞 PF-L 膜丝;

  2. 每 1~2 个月对内置 PF-L 模组反向纯水冲洗,恢复脱气效率;

  3. CO₂钢瓶配套减压阀稳压 0.05~0.15MPa,气路全程密封防泄漏;

  4. 长期停机需排空管路,用超纯水封存膜芯,避免干燥失效;

  5. 严禁通入有机溶剂、,膜体溶胀后损坏。

九、和单独 PF 脱气模组选型区分

  1. 仅需纯水脱气、无防静电需求:选 PF-D(中小流量)/PF-L(大流量)单支膜柱;

  2. 清洗工序既要脱泡除氧,又要消除静电、控电阻率:直接选用eFLOW P 系列一体机

  3. 蚀刻液、光阻、溶剂强腐蚀药液脱气:单独选用 PF-F 氟膜模组,不可搭配 eFLOW。


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