一、基础信息

• 型号：SVLCD‑71‑6.35‑2

• 系列：SVLCD 微量低容积变化手动隔膜阀（Small Volume Change Diaphragm Valve）

• 驱动方式：手动

• 接口通径：6.35 mm（1/4" VCR）

• 定位：半导体精密微量气路专用，用于 ALD、刻蚀、微量特气、压力稳定控制、SiC/GaN 优良制程

二、型号释义

• SVLCD：小容积变化微量隔膜阀，核心特点是开关时内部容积波动极小

• 71：标准阀体，VCR 接口、EP 电解抛光规格

• 6.35：接管口径 6.35mm

• 2：微量流路规格代码

三、核心优势

1. 极低容积变化：开关瞬间阀腔体积变化远小于 NEW‑MEGA/MEGA 常规阀，压力波动极小、流量稳定性高，适合微量精密控制

2. 低死区设计，气置换干净，减少气体残留与颗粒风险

3. 直动式金属隔膜结构，零泄漏、长寿命、低发尘

4. 阀体紧凑，适合气体面板高密度布局

四、接液部材质

• 阀体：SUS316L，EP 电解抛光 Ra≤0.25μm，可选 UP 超抛光

• 隔膜：镍‑钴合金，耐 HCl、HI、HF、WF₆、Cl₂等强腐蚀气体

• 阀座：PCTFE，耐化学腐蚀，阀座零泄漏

• 接口：1/4" VCR 公头（UJR）

五、技术参数

• 最高工作压力：1.0 MPa

• 适用温度：‑10℃ ～ +80℃

• Cv 值：0.22（N₂，20℃）（微量规格，小于常规阀 0.35）

• 内漏：阀座零泄漏

• 外漏：≤5×10⁻¹² Pa・m³/s（氦质谱检漏）

• 操作方式：手动旋转启闭

六、适用流体 & 应用场景

适用气体

典型应用

1. ALD 原子层沉积、刻蚀设备微量精密供气

2. MFC 前端隔离阀、微量吹扫、压力稳定回路

3. SiC/GaN 第三代半导体精密工艺

4. 气体面板微流量支路、检漏气路