日本Kashiyama樫山 立式螺杆干式真空泵
定位：半导体严苛工艺用水冷干式螺杆泵，分 SDX（标准腐蚀）、SDT（超严苛腐蚀）、SDH 超大流量款；大腔体、大气段抽速高，主打耐粉尘、耐腐蚀性工艺气体

日本Kashiyama樫山  立式螺杆干式真空泵
日本Kashiyama樫山  立式螺杆干式真空泵

核心特点

1. 立式螺杆结构 + 内置加热温控系统，抑制副产物冷凝析出，粉体、腐蚀性工艺耐受性强（SDT 版本防腐规格更高）

2. 大气下抽速大，缩短腔体抽气周期，适配大容积腔室；整机占地比同级别泵缩小约 35%

3. 全干式无油，清洁真空；水冷式（区别 NeoDry 风冷系列）

4. 标配氮气吹扫，可调节 N₂稀释 / 吹扫流量，保护螺杆与轴承

5. 符合 SEMI、CE、NRTL 半导体标准；自带监控、报警、通讯接口

6. 低功耗优化，适合 24h 连续量产

后缀区分重点：

• SDX：标准严苛工艺（一般刻蚀、沉积）

• SDT：超严苛工艺（强腐蚀、大量粉尘）

• SDH：超大流量型号（SDH3000 / SDH6000）

📌 核心规格表

表格

• 电源：三相 AC200～220V 50/60Hz

• 驱动形式：干式螺杆、水冷

• 接口：法兰为半导体常用 ISO 法兰（按型号）

⚖️ SD / SDE / SDL / NeoDry 选型区分

• SD：水冷立式螺杆，高粉尘 + 强腐蚀，PVD / 刻蚀 / 沉积主力

• SDE：强化耐蚀款，针对含溶剂、副产物更多工艺

• SDL：超大流量水冷螺杆，FPD、大腔 L/L 腔体

• NeoDry E/G：风冷干式泵，洁净、腐蚀轻微、中小抽速、成本更低

🏭 典型应用

半导体刻蚀、PVD、CVD、ALD、晶圆清洗、FPD 面板工艺；有粉体、卤素腐蚀气体、容易产生沉积物的工艺优选 SDT；普通腐蚀工况选 SDX