Edwards爱德华 半导体严苛多级罗茨干式泵
>半导体专用重型干式多级罗茨泵（Roots），专门给高腐蚀、易冷凝、带沉积物的半导体工艺设计

Edwards爱德华 半导体严苛多级罗茨干式泵
Edwards爱德华 半导体严苛多级罗茨干式泵

✅ 核心原理 & 特点

多级无油罗茨结构，腔体无油；齿轮箱独立润滑，气体侧和润滑侧隔离。

• 宽区间温控：泵体温度可调，抑制副产物冷凝、镀覆沉积（TiCl₄、氮化硅、氧化硅 ALD/LPCVD 这类极易结垢工艺核心卖点）

• XCEDE 防腐涂层选配：转子 / 定子表面强化处理，抗腐蚀能力大幅提升，是 iXH 最关键的工艺包，强酸、卤化物刻蚀标配

• 新型气体阻隔密封，降低反向泄漏、延长保养周期

• 自带智能控制、N₂多路吹扫（入口、轴封、级间吹扫），针对粉尘、可凝物

• 水冷、低振动，整机集成控制器，支持通讯、故障诊断、热管理闭环

• Mk2 版本：功耗优化、寿命更长，是当前量产主力

✅ 主流型号（HTXS 为高温严苛版本）

表格

后缀说明：H = 高温，TX=XCEDE 防腐涂层，S = 强化吹扫

✅ 典型半导体应用（iXH 是这一类工艺的泵）

1. ALD：氧化硅、氮化硅、TiN（TiCl₄工艺，非常容易冷凝结块，优先 iXH 高温款）

2. LPCVD：多晶硅、氮化硅、氧化层沉积

3. 高腐蚀介质刻蚀、介质层蚀刻

4. 带可凝副产物、金属氯化物沉积工艺