日本Kashiyama热卖MU系列 水冷多级罗茨
定位：半导体中低负荷工艺水冷干泵，大抽速、低功耗，分为 MU 基础系列 / MU-P/H（热氮气吹扫版） / MU-X（严苛制程加强版）

日本Kashiyama热卖MU系列 水冷多级罗茨
日本Kashiyama热卖MU系列 水冷多级罗茨

✅ 核心特点

1. 多级罗茨无油干式泵，泵腔无油，洁净真空，无油雾污染晶圆制程

2. 业界同抽速等级极低功耗，20000L/min 级别整机功耗仅约 0.95kW，节能优势突出樫山工业

3. 水冷结构，适合连续长时间 24h 量产运行；标配氮气吹扫，MUH 版本支持热 N₂吹扫（Hot N₂ Purge），防止反应副产物析出沉积，适合含粉体 / 可凝气体蚀刻、CVD 制程樫山工业

4. 体积紧凑，比同规格竞品占地面积减少约 32~35%，方便机台内置集成樫山工业

5. 支持 SEMI S2、CE 安全标准（MUH 不支持 NRTL）；内置变频器，50/60Hz 自适应

6. 模块化架构：小机型为单级多级罗茨；大抽速型号内置机械增压罗茨 booster，大幅提升中真空区间抽速

📋 MU 全家族型号总览

MU-P/H（MUP / MUH，主流量产版，主推 MU 系列）

表格

冷却水流量：标准 2L/min；N₂吹扫流量 0~45 SLM（MUP600E），大机型最高 0~60 SLM樫山工业

MU-X / MU-XE（恶劣制程加强版本，属于 MU 衍生）

MU-X 系列转子、腔体防腐强化，应对强副产物、粉尘多的蚀刻工艺，功耗更低：MU100X / MU180X / MU300X / MU600X / MU1218X / MU20N18X / MU30N18X，抽速覆盖 1660 ~ 50000 L/min

🧪 典型应用场景（半导体为主）

• 半导体：Loadlock 腔抽气、刻蚀（中轻度工艺）、PVD 溅射、CVD、去胶、等离子清洗

• FPD 面板、OLED 制程腔体排气

• 真空镀膜、真空热处理、大腔体真空搬运