DIC迪爱生 超纯水防静电 + 脱气一体化装置
DIC eFLOW P 系列（Panel 面板式）超纯水防静电 + 脱气一体化装置

一、产品定位与命名规则

1. 系列定义

2. 型号编码释义

• eFLOW：防静电控电阻率一体化装置

• 数字 1/2/3：内置 PF-L 膜模组数量

• AP：EIA 标准机架面板安装型（P 系列核心标识）

• B01/B02：洁净管路接头规格

• NA/ND2：对应 PF-L 低阻膜芯型号

二、核心工作原理（双膜协同）

1. 真空脱气腔（PF-L 膜芯）

   超纯水走 PMP 中空纤维内腔，外侧抽真空，脱除水中 O₂、原生 CO₂，消除管路气泡、抑制硅片氧化水印，溶氧可降至 ppb 级。

2. CO₂溶气防静电腔

   纯 CO₂气体透过膜丝融入纯水，电离产生微量导电离子，精准拉高纯水导电率、降低电阻率，消除水流摩擦产生的静电，避免：

• 静电吸附微颗粒造成基板脏污

• 静电击穿晶圆精细线路、掩模损伤

3. 自动比例混合系统

   原生高阻纯水 + CO₂饱和低阻水自动配比，搭配在线电阻率传感器闭环控制，流量波动时阻值稳定不漂移，无需人工调节。

三、接液材质 & 基础工况参数

1. 接触流体材质（高纯无析出）

• 脱气膜芯：改性 PMP 聚烯烃 SS 致密皮层膜（PF-L 系列）

• 壳体 / 管路：PP、高纯 UPVC 洁净塑料

• 密封：低离子 EPDM 橡胶；可选全 PFA 超高洁净接头

• 全程无金属接触纯水，杜绝金属离子污染晶圆制程

2. 通用运行参数

• 适用介质：仅 18.2MΩ・cm 超纯水、稀中性清洗水

• 禁用：HF、浓酸碱、IPA、有机溶剂（会溶胀 PMP 膜丝）

• 液侧耐压：0.3MPa，运行推荐≤0.2MPa

• 使用温度：5～40℃，高温 60℃工况可选定制高温款

• 配套气源：工业高纯 CO₂；配套真空发生器 / 真空泵

• CO₂溶解模组原厂 5 年质保

四、P 系列主流面板式型号完整规格表

五、P 系列（面板式）核心优势

1. EIA 标准机架嵌入式，机柜集成友好

   AP 面板款可直接装入半导体设备标准电控机架，立式 / 卧式安装，节省设备内部空间，便于产线标准化布局。

2. PF-L 低压损膜芯，适配大流量纯水主线

   相比 PF-D 小型膜，同等流量下压损降低 40%，原有纯水管路无需加装增压泵，产线改造成本低；支持纯水反向冲洗，延长膜芯更换周期。

3. 脱气 + 防静电一体集成，简化水路布局

   传统方案需单独脱气模组 + 独立 CO₂溶气装置，eFLOW 整机二合一，减少管路接头、降低泄漏风险，缩短水路长度。

4. 电阻率控制稳定性强

   分流配比管路，流量骤变（喷淋启停、间歇供水）时电阻率波动极小，持续稳定抑制静电，避免批量基板不良。

5. 运维简单、故障率低

   无搅拌、精密计量泵等运动部件；仅定期更换 PF-L 膜芯，真空、CO₂气路自带排污监测，维护成本低。

六、典型应用场景（半导体 / 显示主力）

1. 半导体晶圆制程

   8/12 寸硅片 SC 标准清洗、掩模版 / 光罩清洗、晶圆高压喷淋清洗、硅片切割纯水冷却

2. 显示面板 LCD/OLED

   彩色滤光片清洗、阵列基板槽式清洗、高压纯水喷淋除颗粒

3. 光伏硅片制程

   硅片酸洗前纯水预清洗、线切割冷却纯水回路

4. 精密光学行业

   光学镜片、镜头超声波超纯水清洗，防止静电吸附粉尘造成划痕、麻点