AND爱安德 内置无风离子除静电分析天平
GX-AE 属于Apollo 阿波罗分析天平，仅 0.1mg（0.0001g）万分级机型，是 GX-A 标准款的防静电升级款

一、系列定位与命名规则

• GX：Apollo 天平平台，搭载新一代 Smart-SHS 高速混合传感器

• AE = Auto Calibration + Embedded Ionizer

1. A：内置自动校准砝码，温变自动校准

2. E：防风罩内置 Quick Ion 无风直流离子发生器（GX-A 无内置除静电）

在售完整型号（仅 3 款）

二、核心硬件结构与技术

1. Quick Ion® 内置无风静电消除（AE 核心卖点）

• 集成于防风罩内部，无风扇、无气流，不会吹散纳米粉体、光刻粉、PI 薄膜

• 10cm 范围内仅 0.3 秒完成静电中和，除电速度为普通外置离子器 2 倍

• 搭配红外遥控开关，无需开启防风罩即可一键启停除静电，洁净室手套操作更便捷

2. Smart-SHS 智能混合传感

3. 全拆式大容积防风罩

4. ECL 电控自检 + APA 自动精度评估

5. ISD 冲击检测防护

6. 丰富通讯与权限管理

• 双接口：RS232+USB，可同时连接电脑、打印机、PLC；可选蓝牙无线传输

• UAC 分级密码权限：11 组用户账号，区分管理员 / 操作员，防止参数误改

• WinCT-UFC 免费数据软件，自动存储带时间戳的称量、校准记录

三、GX-AE 全型号标准参数

• 称量盘：φ85mm SUS316 低析出不锈钢盘

• 尺寸：259×358×332 mm，整机约 7kg

• 环境温区：5~40℃，湿度＜85% 无凝露

• 拓展：底部下挂钩，可选密度测定套件

四、GX-AE vs GX-A 核心区别

五、行业应用

1. 半导体晶圆 / 光刻制程（主力场景）

   光刻胶粉末、纳米抛光粉体、PI 绝缘薄膜、晶圆保护膜微量配比；无风除静电杜绝粉体飞散、称量数值漂移。

2. 制药 / 生物医药

   原料药、药典标准品、HPLC 流动相称量，完整 GLP 数据记录满足审计。

3. 新材料研发

   碳纳米材料、催化剂、纳米颗粒痕量称量。

4. 洁净车间配液工位

   清洗液、蚀刻添加剂微量调配，快速稳定读数提升生产效率。