NIKKATO日陶 高纯氧化铝极低杂质 /超低磨耗
诚信为本、专业高效、客户共赢、赋能产业
成为连接*半导体资源与国内终端需求的核心桥梁

一、型号与定位

• 型号：SSA‑995（High Purity Grade）

• 纯度：Al₂O₃ ≥ 99.5%（高纯级门槛）

• 定位：在 HD/HD‑11/HD‑2 之上，高纯低污染主力；低于 SSA‑999W/S（99.9%），性能与成本平衡优。

二、化学组成（低杂质）

• Al₂O₃：99.5%（min）

• 杂质总量：＜0.5%（严格控制）

• SiO₂：≤0.2%

• Fe₂O₃：≤0.05%（低铁，不染色）

• Na₂O/K₂O：≤0.1%（低碱，防锂电副反应）

• 重金属（Pb/Cd/As）：＜10ppm

• 放射性 U/Th：符合电子级标准

三、关键物理性能（对比通用 / 干式级）

四、尺寸规格（微珠至工业级全覆盖）

• 微珠：φ0.1/0.2/0.3/0.5 mm（纳米分散）

• 常规：φ1/2/3/5/8/10 mm（主流精密研磨）

• 大球：φ15/20/25 mm（高粘度 / 大流量）

• 公差：φ≤1mm ±0.01mm；φ>1mm ±0.05–0.1mm

• 外观：高白度、表面镜面光洁、无气孔

五、制造工艺（高纯专属）

• 原料：日本高纯 α‑Al₂O₃粉（99.9% 级），无杂质引入

• 成型：冷等静压（CIP），密度均匀、无内部缺陷

• 烧结：1,550–1,600℃高温致密化，纯刚玉相、无玻璃相

• 微观：超细晶粒（1–2μm）、致密结构，耐磨抗冲击、不掉渣

六、核心优势（高纯场景突出）

1. 低污染：杂质 ppm 级，不引入金属离子 / 重金属，保护锂电、电子陶瓷、荧光粉等高纯物料。

2. 超高耐磨：磨耗仅 93% HD‑11 的 1/4、干式 HD‑2 的 1/6，寿命长、更换少、维护成本低。

3. 高硬高效：密度 3.9g/cm³、硬度 1,800HV，研磨效率比 93% 球高 20–30%，轻松达纳米级细度。

4. 化学稳定：耐酸碱、耐有机溶剂，水 / 溶剂 / 油体系通用，不与物料反应。

5. 低碎不掉粉：高韧性 + 致密结构，高速 / 高负载下不易裂、无碎片污染。

七、典型应用（高精尖高纯场景）

• 新能源锂电：三元 / 磷酸铁锂正极、石墨负极、导电剂、隔膜涂层（防金属污染）

• 电子陶瓷：MLCC 钛酸钡粉体、介电 / 压电陶瓷、半导体封装材料

• 荧光 / 光学材料：稀土荧光粉、LED 荧光粉、光学玻璃原料（保白度 / 纯度）

• 精密化工：医药原料药、高纯颜料、CMP 抛光液、油墨

• 高纯陶瓷：氧化铝陶瓷粉体、结构陶瓷原料、陶瓷浆料超细分散