TOKYOKEISO东京计装热式气体质量流量控制器
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热式气体质量流量控制器 MFC（半导体工艺气体专用）

一、产品定位

• 类型：热式质量流量控制器 MFC / MFM

• 测量原理：热扩散式（温度差法），直接测质量流量，不受压力温度影响

• 用途：N₂、Ar、O₂、HCl、HI、NF₃、SiH₄ 等半导体工艺气体流量控制

• 控制方式：内置电磁阀，闭环 PID 自动调节

二、主要型号与量程

1. HM1000 系列（微小流量，常用）

• HM1000‑005：0–5 sccm

• HM1000‑050：0–50 sccm

• HM1000‑500：0–500 sccm

• HM1000‑2L：0–2 L/min

2. HM5000 系列（中流量）

• HM5000‑5L、HM5000‑10L、HM5000‑20L

3. HM6500 系列（高精度 / 耐腐蚀型）

4. HM9700A 系列（大流量、工业级）

单位：sccm = cm³/min（标准状态），半导体气体通用单位

三、核心规格

• 精度：±1% FS

• 重复性：±0.2% FS

• 响应时间：＜1 秒

• 耐压：0.5 MPa

• 工作温度：5–50℃

• 接液材质：SUS316L 不锈钢（耐腐蚀型可选电解抛光 EP）

• 信号：4‑20mA、0‑5V、RS485 Modbus‑RTU

• 供电：DC24V

• 接口：VCR、卡套接头，半导体标准

四、核心优势

1. 直接质量流量：不受压力、温度波动影响，控制稳定

2. 耐腐蚀型号齐全：HM6500 可用于 HI、HCl 等强腐蚀工艺气体

3. 微小流量精准：最小 5 sccm，适配 SiC、第三代半导体微量工艺气体

4. 抗污染、长期稳定，洁净室兼容

5. 日系 MFC，性价比高，对标 KOFLOC、HORIBA

五、典型应用

• SiC / 第三代半导体刻蚀、外延、清洗工艺气体

• HCl、HI、NF₃、Cl₂ 等腐蚀性气体控制

• 氮气吹扫、氩气保护、氧气工艺气体

• 光伏、精密电子、真空设备气路控制