樫山Kashiyama小型罗茨式干式真空泵MU‑X
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樫山Kashiyama小型罗茨式干式真空泵MU‑X
樫山Kashiyama小型罗茨式干式真空泵MU‑X
KASHIYAMA（樫山工业）MU‑X 系列是小型罗茨式干式真空泵，主打超紧凑、超低能耗、无油洁净，面向半导体 / 面板的中小流量清洁真空制程，是高性价比的中低真空干泵方案。

一、核心原理与结构

• 泵型：双罗茨转子，干式无油设计，转子与腔体无接触、无磨损，全程无油污染。

• 原理：电机驱动同步齿轮，双转子反向旋转，容积腔周期性变化实现吸气 — 压缩 — 排气；内置温控 + 氮气吹扫接口，抑制水汽 / 溶剂凝结。

• 定位：清洁 / 中小流量干泵，用于无需高真空、但要求洁净与稳定的制程。

二、主流型号与关键参数

• 电源：三相 AC200～220V/50/60Hz

• 材质：接液部铸铁 + 特种涂层，标准型适配非腐蚀性气体

• 冷却：风冷（小型）/ 水冷（大型），冷却水量 2～4L/min

三、核心特点

1. 小巧，占地最少

• 行业同级最小占地面积，MU100X 仅 A4 大小，适配设备集成 / 狭窄空间。

2. 超低能耗，节能优选

• 功耗0.35kW 起，较同级干泵省电 40%+，长期运行成本低。

3. 无油洁净，高稳定性

• 干式无油，无油蒸气污染，适配半导体晶圆 / 超净环境；低振动、低噪音（≤75dB）。

4. 易维护，长寿命

• 转子无接触、无磨损，免油润滑，维护周期长；模块化设计，故障排查与更换便捷。

5. 制程适配灵活

• 标配氮气吹扫接口，可选温控模块，应对轻微水汽 / 溶剂；可多台并联扩展抽速。

四、典型应用

• 半导体：Load Lock（L/L）、输送室、真空搬运、晶圆预抽、低压 CVD 辅助。

• FPD / 面板：OLED/LCD 蒸镀前级、光刻胶溶剂排气、小型腔室真空。

• 通用工业：真空包装、吸附固定、环境测试舱、医疗设备、分析仪器。