樫山Kashiyama立式螺杆式干式真空泵SD系列
诚信为本、专业高效、客户共赢、赋能产业
成为连接*半导体资源与国内终端需求的核心桥梁

一、核心设计与原理

• 结构：立式双螺杆，无油干运转，避免油污染；集成加热控温 + 氮气吹扫，防冷凝、防腐蚀。

• 原理：电机驱动同步齿轮，双螺杆反向旋转，容积变化连续抽气；内置温控维持腔体高温，抑制溶剂 / 水汽凝结。

二、主流型号与核心参数

1. 型号命名（后缀含义）

• SDX：标准耐用型（一般严苛制程）

• SDT：高耐腐型（超严苛 / 腐蚀性气体）

• SDH：大流量型（高排气量需求）

2. 关键参数总表

• 电源：三相 AC200~220V/50/60Hz

• 材质：接液部特种涂层铸铁 / 不锈钢，SDT 系列强化耐腐

• 尺寸：紧凑化，20,000L/min 级占地较上代缩减 35%

三、核心特点

1. 无油洁净：全程干运转，无油蒸气污染，适配半导体晶圆 / 超净工艺。

2. 高真空高抽速：极限压力低至0.3Pa，抽速覆盖10,000~100,000L/min。

3. 制程耐受性强：

• 立式螺杆 +宽域温控（45~200℃），防溶剂 / 水汽凝结。

• SDT 系列高耐腐材质，适配刻蚀、CVD 等含氟 / 氯腐蚀性气体。

4. 节能低耗：优化螺杆型线 + 高效电机，较同级省电 30%+；冷却水量需求低（3~4L/min）。

5. 易维护：模块化设计，免油润滑，维护周期长；标配脚轮，移动部署便捷。

6. 安全合规：符合 SEMI、CE、NRTL，过载 / 过热 / 短路保护齐全。

四、典型应用

• 半导体：刻蚀、CVD、PVD、ALD、晶圆清洗、真空输送。

• FPD / 面板：TFT-LCD/OLED 蒸镀、光刻胶溶剂排气（SDL 系列专用）。

• 热处理：真空淬火、退火、钎焊、烧结（SDX 节能款适配）。

• 化工 / 制药：蒸馏、干燥、反应釜真空、腐蚀性气体处理。

• 其他：真空包装、锂电池制程、环境测试舱。

五、选型要点

1. 抽速需求：小批量选SDX600/SDT600；量产线选SDX1200/1800；大流量选SDH3000/6000。

2. 气体特性：普通气体→SDX；腐蚀性 / 含氯氟→SDT；溶剂 / 水汽多→带温控 + 氮气吹扫。

3. 极限压力：高真空（≤0.3Pa）→SDT；一般真空（0.5Pa）→SDX/SDH。

4. 能耗与空间：优先SDX 节能款；场地受限选紧凑型。