EBARA玉崎华南一级代理 干式真空泵
诚信为本、专业高效、客户共赢、赋能产业
成为连接*半导体资源与国内终端需求的核心桥梁

• 小流量（研发 / 中试）：EV‑M20N、EV‑M102N，抽速108–1,000 L/min，适配实验室、小腔室、低负荷制程。

• 中流量（量产主流）：EV‑M202N、EV‑M302N、EV‑M502N、EV‑M802N，抽速2,000–8,000 L/min，适配刻蚀、PECVD、ALD 等半导体量产线。

• 大流量（重载 / 大腔室）：EV‑M1202N、EV‑M505SF，抽速12,000–110,000 L/min，适配 MOCVD、大型负载锁、光伏 / 面板高排气需求。

• 类型：多级罗茨（Lobe）结构，真空侧无油；标配耐蚀铸铁 + N₂吹扫，可处理微量腐蚀性气体。

二、核心技术参数（代表型号）

三、核心特点

1. 严苛工况专用：多级罗茨 + 耐热设计，可长期处理高温（≤120℃）、高粉尘、微量腐蚀气体；氢气抽速比普通螺杆泵高 40%+，适配 MOCVD 等氢气氛制程。

2. 智能高效节能：内置怠速 / 变频智能控制，负载降低时自动降速，节能 30%–50%；50/60Hz 通用，*电网适配。

3. 无油洁净 + 强耐腐：真空侧无油污染；泵体NiResist 耐蚀铸铁，标配N₂吹扫 + 密封气，可处理 HCl、HF 等微量腐蚀性气体；维护周期 **≥25,000 小时 **。

4. 低噪震 + 易集成：运行噪音≤68 dB、震动极低；结构紧凑、底座带减震，适配洁净室与自动化产线；符合CE、SEMI‑S2、NRTL。

5. 灵活扩展 + 远程监控：支持多泵并联、冗余备份；标配RS485/Modbus，可远程监控温度、压力、电流、振动等参数，适配工业 4.0 产线。

四、典型应用

• 半导体：ALD、LPCVD、PECVD、HDP‑CVD、MOCVD、刻蚀、负载锁 / 传输腔粗抽。

• 显示 / 光伏：LCD/OLED 溅射、PECVD、大型玻璃基板镀膜、光伏电池制程。

• 工业 / 科研：大型真空干燥、太空模拟舱、加速器、冶金 / 热处理高真空排气。